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化學水浴中氨濃度對沉積ZnS 薄膜的影響 |
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資料類型: |
PDF文件
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關(guān)鍵詞: |
化學水浴 氨濃度 zns 薄膜 折射率 |
資料大?。?/td>
| 442K |
所屬學科: |
分子表征 |
來源: |
2007年第六屆中國功能材料及其應(yīng)用學術(shù)會議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19,武漢) |
簡介: |
用化學水浴法在玻璃襯底上沉積ZnS薄膜。采用XRD、SEM、nkd-薄膜分析系統(tǒng)對薄膜的形貌、結(jié)構(gòu)和光學性能進行了分析,結(jié)果表明:當氨濃度≤1.50mol/L,可獲得白點較少、平整性較好的非晶ZnS薄膜,在紅移方向上很長的波段內(nèi)透過率較好,可達95%以上,禁帶寬度為3.81eV,折射率隨波長的增加而減小,從2.32變化到1.92。有關(guān)化學水浴ZnS薄膜折射率的報道極少;當氨濃度>1.50mol/L時,薄膜白點增多,易龜裂和剝落,結(jié)構(gòu)是立方閃鋅礦。 |
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作者: |
劉庭芝,多樹旺,張萌,向軍淮,李明升,胡長員
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上傳時間: |
2008-08-12 16:07:03 |
下載次數(shù): |
46 |
消耗積分: |
2
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