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美國(guó)喬治亞工學(xué)院研究人員稱，他們已成功開(kāi)發(fā)出一種納米光刻術(shù)。這種新型納米光刻術(shù)不僅速度極快，而且能夠用于包括空氣和液體等多種工作環(huán)境。 據(jù)研究人員介紹，新的納米光刻術(shù)被稱為熱化學(xué)納米光刻術(shù)（TCNL），它在電子業(yè)、納米應(yīng)用流體學(xué)和醫(yī)學(xué)等多領(lǐng)域均具有潛在應(yīng)用前景，能幫助工業(yè)界在速度和規(guī)模上商業(yè)化生產(chǎn)包括納米電路在內(nèi)的廣范圍的納米圖案結(jié)構(gòu)。 研究人員表示，新的工藝實(shí)際上相當(dāng)簡(jiǎn)單。他們將原子力顯微鏡的硅材料探針加熱，并讓它在薄高分子膜上“行走”，從而獲得電路圖。探針尖的熱量導(dǎo)致高分子膜表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，改變了薄膜的化學(xué)性質(zhì)，從原來(lái)的“厭”水物質(zhì)轉(zhuǎn)變成現(xiàn)在的“親”水物質(zhì)，因此能與其他分子牢固地粘貼在一起。 新的熱化學(xué)納米光刻術(shù)速度相當(dāng)快，每秒鐘“刻寫”長(zhǎng)度超過(guò)數(shù)毫米，F(xiàn)在廣泛采用的蘸筆納米光刻術(shù)（DPN）“刻寫”速度僅為每秒鐘0.0001毫米（即0.1微米）。利用新工藝，研究人員能夠在不同的環(huán)境中“刻寫”最小寬度僅為12納米的圖案。 除“刻寫”尺寸小、速度快和可在多環(huán)境中工作外，熱化學(xué)納米光刻術(shù)的另一個(gè)特點(diǎn)是它不像常規(guī)納米光刻術(shù)那樣，需要其他的化學(xué)物質(zhì)或強(qiáng)電場(chǎng)。此外，采用IBM公司開(kāi)發(fā)的原子力顯微鏡探針組，熱化學(xué)納米光刻術(shù)還具有大規(guī)模生產(chǎn)的潛能，可讓用戶同時(shí)用上千個(gè)針尖獨(dú)立地“刻寫”圖案。 喬治亞工學(xué)院物理院助理教授愛(ài)麗莎·瑞爾朵說(shuō)：“熱化學(xué)納米光刻術(shù)屬于高速和多功能技術(shù)，它幫助我們更進(jìn)一步邁向商業(yè)化所需的光刻速度。由于我們只是加熱以改變其化學(xué)結(jié)構(gòu)，而不需要將任何材料從原子力顯微鏡探針轉(zhuǎn)移到高分子膜表面，因此這種方法要比常規(guī)方法快得多！ |
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